Titanium doelwit

Zuiverheid
Purity is een van de belangrijkste prestatie -indicatoren van het doelwit, omdat de zuiverheid van het doelwit een grote invloed heeft op de uitvoering van de film . Maar in praktische toepassingen zijn de zuiverheidsvereisten voor het doelwit niet hetzelfde . Bijvoorbeeld, met de snelle ontwikkeling van de micro -elektronische industrie, de siliconchip is ontwikkeld uit 6 0 . 5UM tot 0 . 25UM, 0.18um of zelfs 0,13um, en de vorige doelzuivere 99,995% kan voldoen aan de procesvereisten van 0,35umisch.
Inhoud van onzuiverheid
Impurities in target solids and oxygen and water vapor in pores are the main pollution sources of deposited films. Targets for different purposes have different requirements for different impurity content. For example, pure aluminum and aluminum alloy targets used in the semiconductor industry have special requirements for alkali metal content and radioactive element content.
Dikte
In order to reduce the porosity in the target solid and improve the performance of the sputtered film, the target is usually required to have a high density. The density of the target not only affects the sputtering rate, but also affects the electrical and optical properties of the film. The higher the density of the target material, the better the performance of the film. In addition, increasing the Dichtheid en sterkte van het doel maakt het doel beter in staat om de thermische spanning te weerstaan ​​tijdens sputtering . dichtheid is ook een van de belangrijkste prestatie -indexen van het doelmateriaal .