Productbeschrijving

Specificatiebereik: (10-20) mm x (200-1450) mm x minder dan of gelijk aan 3000 mm
Specificaties van geleverde producten: 9,5 mm x 160 mm x 925 mm

15 mm x 133 mm x 778 mm

19 mm x 200 mm x 2700 mm
10 mm × 885 mm × 960 mm

14 mm × 1400 mm × 1700 mm
16 mm × 1431 mm × 1650 mm
Zuiverheidsspecificatie: 99,95%; 99,98%
Dichtheid: groter dan of gelijk aan 10.10 g/cm3
Structuur: gemiddelde korrelgrootte van minder dan 150 micron, typisch doelmateriaal en oppervlaktestructuur
Gemiddeld hardheidsbereik: HV 180-200 Ultrasone inspectie: het maximale equivalent defect is niet meer dan 0,5 mm;

Aangepaste service

Zorg voor aangepaste producten en diensten voor verschillende behoeften . Tantalum doelmaterialen met een hoge temperatuurweerstand en hoge sterkte zijn ontwikkeld voor het ruimtevaartveld .

Technologische innovatie

Geavanceerde nanotechnologie wordt gebruikt om de elektrische geleidbaarheid en corrosieweerstand van tantalum -doelen te verbeteren

Precisie -bewerkingstechnologie

Geavanceerde CNC -bewerking, lasersnijden . nauwkeurigheid verhoogd tot ± 0 . 02mm.

Oppervlaktebehandeling

Anodiseren en elekooplozen verbeteren de slijtvastheid met 25% en corrosieweerstand met 30%, en verlengen de levensduur met 20%

Als een toonaangevende fabrikant van titaniumdoelmaterialen komt onze concurrentievoordeel voort uit nauwgezette grondstofregeling en strenge productieprocessen, waardoor superieure kwaliteit en prestaties worden gewaarborgd die concurrenten overtroffen .

1. ongeëvenaarde grondstofafhankelijkheid
We vinden titanium grondstoffen van gecertificeerde mijnen met een bewezen staat van dienst in het produceren van high -purity ingots . Onze inkomende materialen ondergaan rigoureuze multi -fase -inspectie . Bijvoorbeeld, we gebruiken inductief gekoppelde optische emissiespectroscopie (icp - oes) om de chemische compositie te analyseren, de titaniumtjes buiten 99 . 95% . Deze zorgvuldige controle over onzuiverheden zoals zuurstof (onder 150 ppm) en ijzer (minder dan 50 ppm) minimaliseert defecten tijdens sputtering, het verminderen van filmbesmetting en het verbeteren van de afzetting van de afzetting tot 20% vergeleken met industriële standaarden.

2. Geavanceerde en precisie - Gedreven productie
Ons smeedproces maakt gebruik van isothermische smedentechnologie, die een constante temperatuur handhaaft tijdens het vormgeven van . Dit resulteert in een meer uniforme korrelstructuur, met een gemiddelde korrelgrootte van 15 - 25} micrometers . vergeleken met traditionele smeeding, onze producten tonen 30% betere uniformiteit, reaching 99 {5} 8% van theoretical. Dichtheid . Deze uniformiteit vermindert de boogversterking tijdens het sputteren aanzienlijk, waardoor de doellevens met 25% wordt verlengd en de consistentie van de filmdikte wordt verbeterd.

Tijdens het bewerken hanteren we een CNC -bewerkingscentrum van vijf as met een positioneringsnauwkeurigheid van ± 0 . 002 mm {. Deze hoge machinatie van de precisie zorgt voor vlakheid binnen 0 . 005 mm/mm/mm, het minimaliseren van de oppervlakte -ruwheid (ra <0,2 μm). In halfgeleidertoepassingen zorgt deze precisie mogelijk voor een nauwkeuriger dunne -filmafzetting, waardoor de productafstotingspercentages met 15%worden verlaagd.

3. rigoureuze kwaliteitsborging
Each titanium target undergoes 100% non - destructive testing using ultrasonic testing (UT) with a frequency of 5 MHz. This detects even the tiniest internal defects as small as 0.1 mm², ensuring the reliability of our products. Our in - house quality control lab also conducts sputtering performance tests, simulating real - world usage Voorwaarden . Dit uitgebreide testregime garandeert dat onze doelen voldoen aan de strengste klantvereisten, waardoor u een concurrentievoordeel in uw markt krijgt.

Kies onze titanium doelmaterialen voor consistente kwaliteit, verbeterde prestaties en kosten - effectieve oplossingen . Neem vandaag nog contact met ons op om te onderzoeken hoe we aan uw specifieke behoeften kunnen voldoen .

Stuur nu onderzoek